Electron-beam, X-ray and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing IV - 28 February-1 March 1994, San Jose, California
- Författare
- (David O. Patterson, chair/editor)
- Genre
- Konferenspublikation
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| Cop. 1994 | USA | 420 sidor. | 0-8194-1489-1 |